Con il continuo sviluppo di circuiti integrati su larga scala, il processo di produzione dei chip sta diventando sempre più complesso e la microstruttura e la composizione anomale dei materiali semiconduttori ostacolano il miglioramento della resa dei chip, il che pone grandi sfide all'implementazione di nuove tecnologie di semiconduttori e circuiti integrati.
GRGTEST fornisce un'analisi e una valutazione complete della microstruttura dei materiali semiconduttori per aiutare i clienti a migliorare i processi dei semiconduttori e dei circuiti integrati, tra cui la preparazione del profilo a livello di wafer e l'analisi elettronica, l'analisi completa delle proprietà fisiche e chimiche dei materiali correlati alla produzione di semiconduttori, la formulazione e l'implementazione del programma di analisi dei contaminanti dei materiali semiconduttori.
Materiali semiconduttori, materiali organici a piccole molecole, materiali polimerici, materiali ibridi organici/inorganici, materiali inorganici non metallici
1. La preparazione del profilo a livello di wafer del chip e l'analisi elettronica, basate sulla tecnologia del fascio ionico focalizzato (DB-FIB), sul taglio preciso dell'area locale del chip e sull'imaging elettronico in tempo reale, possono ottenere la struttura del profilo del chip, la composizione e altre importanti informazioni di processo;
2. Analisi completa delle proprietà fisiche e chimiche dei materiali di produzione dei semiconduttori, inclusi materiali polimerici organici, materiali a piccole molecole, analisi della composizione dei materiali inorganici non metallici, analisi della struttura molecolare, ecc.;
3. Formulazione e implementazione di un piano di analisi dei contaminanti per materiali semiconduttori. Può aiutare i clienti a comprendere appieno le caratteristiche fisiche e chimiche degli inquinanti, tra cui: analisi della composizione chimica, analisi del contenuto dei componenti, analisi della struttura molecolare e analisi di altre caratteristiche fisiche e chimiche.
Serviziotipo | Servizioelementi |
Analisi della composizione elementare dei materiali semiconduttori | l analisi elementare EDS, l Analisi elementare mediante spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS) |
Analisi della struttura molecolare dei materiali semiconduttori | l Analisi dello spettro infrarosso FT-IR, l Analisi spettroscopica di diffrazione dei raggi X (XRD), l Analisi pop della risonanza magnetica nucleare (H1NMR, C13NMR) |
Analisi della microstruttura dei materiali semiconduttori | l Analisi delle fette con fascio ionico a doppia focalizzazione (DBFIB), l La microscopia elettronica a scansione a emissione di campo (FESEM) è stata utilizzata per misurare e osservare la morfologia microscopica, l Microscopia a forza atomica (AFM) per l'osservazione della morfologia superficiale |