DB-FIB

Con il rapido progresso dell'elettronica dei semiconduttori e delle tecnologie dei circuiti integrati, la crescente complessità delle strutture dei dispositivi e dei circuiti ha aumentato i requisiti per la diagnostica dei processi dei chip microelettronici, l'analisi dei guasti e la micro/nanofabbricazione.Il sistema FIB-SEM a doppio fascio, grazie alle sue potenti capacità di lavorazione di precisione e di analisi microscopica, è diventato indispensabile nella progettazione e nella produzione microelettronica.

Il sistema FIB-SEM a doppio fascioIntegra sia un fascio ionico focalizzato (FIB) che un microscopio elettronico a scansione (SEM). Permette l'osservazione SEM in tempo reale dei processi di microlavorazione basati su FIB, combinando l'elevata risoluzione spaziale del fascio elettronico con le capacità di lavorazione dei materiali di precisione del fascio ionico.